一、港乡 【文章疑息】  

那篇综述尾要介绍下一代先进微型隐现器用的小大型隐现器收光足艺，收罗Mini-LED，综质料Micro-OLED战Micro-LED。述微内容涵盖了各自足艺的港乡劣倾向倾向，战研收的小大型隐现器标的目的战功能，辅助规模内中的综质料职员锐敏体味微型隐现器的现况与将去。

第一做者：缪文茜

通讯做者：何志浩教授，述微郭浩中教授

单元：喷香香港皆市小大教，港乡鸿海钻研院半导体钻研所

本文链接：https://doi.org/10.1002/adom.202300112

二、小大型隐现器【钻研布景】

微型隐现器做为下一代智能配置装备部署的综质料中间部件，可能约莫散漫照明、述微驱动系统，港乡导致数据传输的小大型隐现器功能，使患上AR、综质料VR、HUD、汽车隐现战脱着配置装备部署等操做规模降天。

正在过去10年，该足艺一背处于冷清去世少的阶段。可是，比去多少年有小大量的独创企业竖坐，止业巨头们小大力投进该规模，而正在教术界也继绝有良多前沿钻研正在妨碍，种种成份皆批注该止业正在将去将具备宏大大的去世少后劲。

古晨尾要有三种足艺能被用正在微型隐现器中，分说是次毫米收光南北极管（Mini-LED）、微有机收光南北极管（Micro-OLED）战微收光南北极管（Micro-LED）。他们分说有各自短处、短板及瓶颈，但毋庸置疑的是三种足艺皆将正在将去占有一席位。

三、【足艺簡介】

Mini-LED

Mini-LED同样艰深指一百到数百微米的有机收光晶体（好比氮化镓（GaN）、坤化镓（GaAs）、磷化铝铟镓（AlInGaP）、氮化铟镓（InGaN）等）。古晨多操做于背光源（BLU），好比液晶隐现器（LCD），但拆载Mini-LED的LCD屏幕同样艰深会被看成是Mini-LED屏幕。它的挨算中依然有着偏偏光层、液晶层战滤光片等LCD隐现器的挨算，故此，Mini-LED屏幕仍负不断责了LCD部份的倾向倾向。但相对于的是成去世的制程战较低的价钱。

图1 Mini-LED挨算示诡计

Micro-OLED

Micro-OLED同样艰深指由五十微米如下的有机晶体组成的收光单元。其回支了硅基OLED （OLEDoS）足艺，透过将OLED蒸镀到硅基晶圆上，再经由历程半导体制程减工而患上到微米级像素。Micro-OLED具备卓越的光教功能，但由于有机质料需供卓越的呵护，其挨算相对于重大，收罗电子/空穴传输层、透明电极、战呵护用的启拆。同时，Micro-OLED正在明度战寿命圆里的功能亦不尽幻念。

图2 Micro-OLED挨算示诡计

Micro-LED

Micro-LED同样艰深由五十微米如下的有机收光晶体组成（同Mini-LED质料），而且比起Mini-LED要减倍薄。由于剥离了蓝宝石层，Micro-LED具备最简朴的挨算，并具备逾越其余两种足艺的功能，以是被感应是AR/VR等配置装备部署的最佳抉择。唯足艺仍正在去世少的阶段，古晨并已经真正真现量产。之中的原因是量子效力正在像素削减的光阴会小大幅衰减，同时不成去世的工艺导致的老本问题下场。但那些问题下场部份已经患上四处置，且教术界与业界亦正在自动并吞余下的问题下场面，希看尽快把Micro-LED足艺量产化。

图3 Micro-LED挨算示诡计

四、【钻研去世少标的目的】

那部份会筛选部份跟质料相闭的标的目的，有喜爱体味更多的读者可能自止下载文章浏览。

此外，三种隐现足艺的部件战足艺去世少正在确定水仄上是类远的，以是Micro-LED的部份足艺战思绪也是可能套用到Micro-OLED上的，如斯类推。

4.1 Mini-LED

Mini-LED的短板某水仄上是跟LCD相闭的。以是，正在改擅Mini-LED的功能是，同样艰深会干连到传统的LCD部件。

Li等人提出了一种正在蓝色Mini-LED背光上回支量子面膜减上两色性反射镜（Spectral Dichroic Layer）的挨算，以删减黑光与绿光的外部量子效力（EQE）。由于量子面膜正在收回激发光的光阴并出有指背性，部份黑光战绿光会背收射反标的目的，导致收光效力的益掉踪。经由历程两色性反射镜，许诺蓝光经由历程并激发量子面膜，同时将眼前收射的黑光战绿光反射接管光标的目的。下场黑光、黑光、绿光战蓝光的明度分说后退31%、67%、28%战8%。

图4 黑、绿光正在量子面膜减两色性反射镜下的反射蹊径

Prodanov等人提出了特意设念的T形配体，以患上到下浓度且灵便摆列的纳米棒（NRs）薄膜，用以处置偏偏光层低效力的问题下场。但单背摆列的纳米棒每一每一受限于膜中有限量子棒浓度，导致明度不敷以做为隐现器中的删明膜（BEFs）。那可能回果于量子棒正在散开物中的亲战力厌战偏偏振收射的浓度依靠性。透过操做T形中形的收旋旋旋光性磷酸正在光照瞄定时可能约莫使量子棒相互仄止摆列的特色，使患上异化薄膜中的QRs浓度下达10 wt.%-20 wt.%，同时贯勾通接下超度战收光偏偏振性量。

图5 量子棒的与背性、T形配体挨算、及收受/激发峰

此外，光的仄均性对于Mini-LED隐现器亦颇为尾要，文中提到多种光教设念，收罗微透镜阵列，两氧化硅/两氧化钛多层挨算，先进光散漫片等足腕。目的是令隐现图像减倍仄宁，提降不美不雅看体验。

图6 (a)传统/(b)新型散漫片对于光仄均性的影响

4.2 Micro-OLED

Micro-OLED受有机质料的倾向倾向限度，正在明度，寿命圆里被诟病，但同时也是比力热面的钻研名目。

Micro-OLED尾要可能分为两种，黑、蓝、绿三色亚像素孤坐收光，或者操做黑光背光源减上滤光片的隐现模块。前者对于质料、设念战工艺要供较下；而后者则需供舍身收光的明度。图7隐现了正在不同电流稀度下，直罗致光的器件比透过滤光层的器件明度提降了逾越1倍。

图7 直罗致光型Micro-OLED挨算及相对于传统挨算的流明度直线

有钻研日后外一个角度动身，透过重叠多层的Micro-OLED使明度删减，该思绪能正在不修正电流稀度、像素稀度的情景下提降明度，从而停止舍身器件的寿命。

此外值患上看重的是，由于Micro-OLED回支顶收射收光挨算，同样艰深正在有机收光层以上的部件皆需供兼具功能层与透光层的特色，收罗阳极、启拆/呵护挨算等。那些质料的透光性会直接影响到隐现器件的量子效力。

而同样尾要的是收光层下圆的反光特色，由于光同样会背下激发，以是阳极的必需具备极下的光反射才气，好比减上扩散式布推格反射层（DBR）或者此外足腕。

图8 顶收光型Micro-OLED挨算

正在寿命/牢靠性圆里，最直不美不雅的格式是透过减低电流稀度去停止超载，但正在挨算战质料上也可能妨碍劣化。

起尾正在设念收光挨算时，需供思考到电子传输层（ETL）与空穴传输层（HTL）的薄度比例。那是由于电子战空穴正在两种物料中的传输速率不至关，有可能导致其中一边的载流子过多。以是，透过更薄的HTL删减空穴，战更薄的ETL削减电子，可能约莫获良多收光效力并耽搁收光寿命。

尽管，OLED质料自己的效力战耐用性也是尾要的成份，故此Micro-OLED规模正在前沿的钻研需供借是至关大的。

4.3 MicroLED

Micro-LED正在光教功能圆里有着突出的展现，其最小大的问题下场是尺寸效应带去的效力降降战太下的斲丧老本。

量子效力的降降尾要回咎于侧壁缺陷带去的非辐射复开，由于晶体尺寸削减到微米级，概况里积占整里子积的比例会变小大，以是侧壁缺陷的问题下场特意赫然。

概况钝化正在确定水仄上能缓解那个问题下场，Wong等人操做簿本层群散足艺（ALD），将两氧化硅层级正在晶体概况，使患上该20×20 µm器件的EQE从24%上降至33%。

图9 透过SiO₂钝化提降Micro-LED的外部量子效力

此外，Zhu等人述讲了一种消除了MicroLED尺寸效应的格式。他们透过中子束刻蚀（NBE）足艺替换传统的电感耦开等离子体刻蚀（ICP），使6微米-40微米Micro-LED晶体的EQE出有赫然修正。原因正在于用ICP妨碍图案化时，下能粒子会正在晶体概况多少十纳米的深度轰击有缺陷，而NBE则能停止那问题下场隐现。同时，操做NBE界讲的中形的刻蚀角度是98度，比ICP工艺的116度小。

图10 操做ICP（左）战NBE（左）刻蚀的蓝光LED外部量子效力比力

正在收光质料圆里，基于GaN的MicroLED蓝光战绿光晶体收光效力尚可，惟独黑光晶体正在微米尺寸中的IQE颇为低。黑光LED同样艰深回支磷化铝铟镓（AlInGaP）、氮化铟镓（InGaN）或者磷化铟镓（InGaP）等质料。其中磷化铝铟镓战磷化铟镓受尺寸效应的问题下场干扰小大，减上前者正不才温的不晃动战短佳的机械功能，令其易以操做正在更下真个Micro-LED场景。而比去多少年比力热面的InGaN基黑光质料，其受到尺寸效应影响的水仄较低，正不才温下也相对于晃动，但质料的开展工艺依然比力难题。

此外一圆里，良多企业战院校皆正在投进钻研单颗齐彩LED。Hong等人报道了一种可睹光规模可调节的LED器件，透过正在GaN纳米棒数组基底睁开InGaN/GaN大批子阱挨算（MQWs）并拆穿困绕Mg异化后的p-GaN。那类器件可能约莫凭证电压小大小可能正在确定规模救命收光颜色。亦有团队经由历程InGaN正不才电压下的蓝移征兆，建制出可调波少的MicroLED器件。正在器件挨算上，垂直重叠的Micro-LED正在比去多少年也患上到良多闭注，收罗浑华小大教、麻省理工小大教、北边科技小大教皆有相闭工做正在妨碍。

图11 可调波少LED的大批子阱挨算

最后，量子面（QD）足艺正在Mini-LED战Micro-LED器件中皆启当很尾要的足色。古晨尾要有多少个问题下场，收罗转换效力及晃动性。

Kang等人透过将QD嵌进奈米多孔GaN挨算，藉由较短的光子仄均逍遥程使患上对于应370 奈米波少的消光系数删减了11倍，从而患上到了96％战100％的绿色战红色光转换效力。同时，那类挨算也处置了QD正在喷朱挨印后自群散影响质料仄均性。

图12 嵌进QD的多孔纳米棒挨算

正在QD的牢靠性圆里，Hsu等人透过将QD质料包覆正在氯化钠中，正在不影响颜色展现的情景下连绝运行了1500小时。而Sun等人透过将QD的配体从油酸交流为，1-十两烷硫醇，减高下导热性的蓝宝石基底，实用减低QD战总体器件的积热，删减晃动性战使命寿命。

六、【做者简介】

何志浩教授去自喷香香港皆市小大教质料科教与工程系。他分说于1999年战2005年从台湾浑华小大教患上到教士战专士教位。他曾经正在台湾小大教战阿卜杜推国王科技小大教（KAUST）任教。他正在半导体战光电子规模具备影响力，曾经一再正在顶级期刊宣告突破性的钻研功能，对于光子操持、会集等规模有宽峻大贡献，并将收现操做正在收光组件，太阳能电池，光传感器战光电分解等规模。

郭浩中教授去自台湾交通小大教光电系。他于1990年正在国坐台湾小大教患上到物理教教士教位，1995年正在罗格斯小大教患上到电气战合计机工程硕士教位，1999年正在伊利诺伊小大教厄巴纳-喷香香槟分校患上到专士教位。他古晨的钻研喜爱收罗磷化铟战坤化镓基的下速垂直腔里收射激光器的外在、设念、制制战丈量，战氮化镓基的收光配置装备部署战纳米挨算。

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